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NF3 -Stickstoff -Trifluorid hohe Reinheit

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Produkteigenschaften

ModellNitrogen Trifluoride CAS: 7783-54-2

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NF3 Stickstoff Trifluorid CAS: 7783-54-2 99,5%

Hohe Reinheit für elektronische

Spezialgas ätzend


Produktnutzung


Stickstofftrifluorid (NF3) ist eine Art farbloser, geruchloser und charakteristischer Stallgas, es ist auch eine Art starkes Oxidationsmittel. Sein Schmelzpunkt beträgt 206,8 ℃, der Siedepunkt beträgt 129,0 ℃, unlöslich in Wasser. Stickstoff -Trifluorid in der Mikroelektronikindustrie ist eine Art exzellentes Plasma -Ätzgas, das während des Plasmaketingprozesses in aktives Fluorion geknackt wird. Für das Plasmaketing von Silizium und Siliziumnitrid weist unter Verwendung von Stickstoff -Trifluorid eine höhere Ätzrate und Selektivität auf als die Verwendung von Kohlenstoff -Teltrafluorid oder Kohlenstoff -Tetrafluorid und Sauerstoffmischgas, insbesondere bei der Ätzung integrierter Schaltungsmaterial mit weniger als 1,5 μM, Stickstoff -Trifluorid hat eine hervorragende Ätzrate und Selektivität. Darüber hinaus gibt es keine Verschmutzung auf der Oberfläche von geätztem Material, es ist auch ein gutes Reinigungsmittel.

Produktparameter


Items Unit Indexs
(NF3)≥ Vol.% 99.5 99.9 99.98 99.99 99.996
(CF4)≤ Vol.ppm 1500 500 100 50 20
(N2)≤ Vol.ppm 700 50 10 10 5
(O2+Ar))≤ Vol.ppm 700 50 10 5 3
(CO)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
(CO2)≤ Vol.ppm 25 10 10 5 0.5
(N2O)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
(SF6)≤ Vol.ppm 50 50 10 5 2
Hydrolyzable fluoride
(Measured by HF)≤
Vol.ppm 1 1 1 1 1
(H2O)≤ Vol.ppm 1 1 1 1 1

Produktgruppe : Halbleiter elektronischer chemischer Materialien > Halbleiter-/Wafer -Ätzmaterialien

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