Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd

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Halbleiter-/Wafer -Ätzmaterialien

C4F6 Hexafluoro-1 3-Butadiene 4N-Chip-Ätzmittel

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C4F6 CAS: 685-63-2 Hexafluor-1 3-Butadiene 99,99% 4n Chip -Ätz -Agent Produktnutzung Hexafluor-1,3-Butadien (C 4 F 6 ) ist eine Art farbloser, geruchlos und unlösliches Wasser. Bei normaler Temperatur und Druck beträgt sein Schmelzpunkt 132,0 ° C,...
NF3 -Stickstoff -Trifluorid hohe Reinheit

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NF3 Stickstoff Trifluorid CAS: 7783-54-2 99,5% Hohe Reinheit für elektronische Spezialgas ätzend Produktnutzung Stickstofftrifluorid (NF3) ist eine Art farbloser, geruchloser und charakteristischer Stallgas, es ist auch eine Art starkes...
Wasserstofffluorid HF Hight Reinity

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Wasserstofffluorid CAS: 7664-39-3 HF 99,999% Hight Reinheit für Waferätzmaterialien ProduktnutzungWasserstofffluorid (HF), auch als Hydrofluorsäure bekannt, hat ein Molekulargewicht von 20,01 und ist eine farblose und transparente Flüssigkeit. Es...
Schwefeltetrafluorid SF4 2N für Plasma -Radierung

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Schwefeltetrafluorid CAS: 7783-60-0 SF4 99% 2n für Plasma-Ätzen und medizinisches Zwischenprodukt Produktnutzung Organisches Fluorinierungsmittel, der Schwefeltetrafluorid (SF4) ist ein selektives organisches Fluorinierungsmittel....
Perfluoropropan -Halbleiter -Ätzung C3F8 High Purity 5N

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Perfluoropropan CAS: 76-19-7 Halbleiter-Ätzung C3F8 Hochreinheit 99,999% 5N Chip-Ätzmaterialien Produkteinführung Perfluoropropan (C 3 F 8 ) ist eine Art farbloser, geruchloser, nicht zahlbarer Inertgas. Bei normaler Temperatur und Druck beträgt...
Iodotrifluormethan 99,99% 4n CF3I Hohe Reinheit

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Iodotrifluormethanecas2314-97-8 99,99% 4N CF3I Hohe Reinheit für Halbleiter Erching-Prozessmaterialien Produktnutzung Iodotrifluormethan kann als Halbleiter -Ätzgase, Isolierung für elektrische Geräte und Lichtbogenlöschgas, Feuerlöschmittel,...
C3F8 Octafluoropropan hohe Reinheit Wafer -Ätzmaterialien

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C3F8 Octafluoropropan CAS: 76-19-7 99,999% Hochreinheit Wafer -Ätzmaterialien Produktnutzung Xenon -Differenzierungen zersetzen sich in neutralen oder alkalischen Lösungen und sind in sauren Lösungen relativ stabil. Die wässrige Lösung hat einen...
Xenon -Differentum XEF2 für Halbleiterätte

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Xenon Difluorid CAS: 13709-61-0 XEF2 99,9% 3N für Halbleiterätte Produktnutzung Xenon -Differenzierungen zersetzen sich in neutralen oder alkalischen Lösungen und sind in sauren Lösungen relativ stabil. Die wässrige Lösung hat einen scharfen Geruch....

China Halbleiter-/Wafer -Ätzmaterialien Lieferanten

Die Innovation von ZSEM-Ätzmaterialien entspricht den herausfordernden Anforderungen des kontinuierlichen Wachstums, und jetzt kann eine Vielzahl von fluorhaltigen hohen Fluor-haltigen Gasen erzeugt werden, um Chipfabriken zu bedienen und Waferchips von immer danpackender Größe herzustellen.

Das von unserem Unternehmen hergestellte Ätzengas ist normalerweise Fluoridgas, einschließlich Bor -Trichlorid 11, Perfluor -Butadien, Carbonylfluorid, Trifluoriodomethan, Xenon -Differenzierungen, Oktafluoropropan, Nitrogen -Trifluorid, Carbon -Tetrafluorid, Hochpurität, hoher Purität Hydrorid, usw..

  • Halbleiter-/Wafer -Ätzmaterialien
    Die herkömmliche Enzymproduktion wird hauptsächlich von Hand, handgeschnitten, handgeführt, und das Unternehmen wird jeder Schritt des Prozesses selbst entwickelte Technologie und Geräte zur Automatisierung der Produktion verwendet. Darüber hinaus hat die konventionelle Enzymproduktion eine Fermentationstechnologie angewendet, Enzym schmeckt häufig Beschwerden, saur Fermentation, Enzyme wie reiner Geschmack, Streptozotocin ausgeglichene Nährstoffe.
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