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Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
Modell: Tantalum(V) Fluoride CAS: 7783-71-3
Zahlungsart: L/C,T/T,Paypal
Tantal (V) Fluorid CAS: 7783-71-3 TAF5 99,9% 3N Chemische Kristallmaterial Semikonduktor-Prozessmaterialien
Produkteinführung
Tantal (V) Fluorid (TAF 5 ) ist ein weißer Kristall mit starker Brechungsfähigkeit bei Raumtemperatur, seine relative Molekülmasse beträgt 276, der Schmelzpunkt beträgt 96,8 °, der Siedepunkt 229,5 ℃. Tantal (V) Fluorid ist in heißer Lösung von Kohlenstoffdisulfid und Kohlenstofftetrachlorid leicht löslich. Es ist löslich in Wasser und Ether, Hydrofluorsäure, Salpetersäurefumierende Salpetersäure, es ist hygroskopisch in Luft ohne Hydrolyse. Hoch reines Tantal (V) Fluorid wird in der Mikroelektronikindustrie für die chemische Dampfabscheidung von Tantal -Silizid oder Tantal -Film zur Herstellung von Interconnects und Gitterelektrode mit niedrigem Widerstand und hohem Schmelzpunkt (Tantalum (V) Fluorid mit starkem Schmelzfisch mit starkem Schmelzfilm) verwendet. Adhäsion, Dicke von 0,1 μm und eine hohe Dielektrizitätskonstante auf der Oberfläche der elektronischen Komponenten, Halbleitergeräte, Titan, metallischer Nitridelektrode und Metall -Wolfram.
Qualitätsspezifikation
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Anwendung _
Tantal (V) Fluorid wird in der Mikroelektronikindustrie zur chemischen Dampfabscheidung von Tantal -Silizid- oder Tantalfilm verwendet, um Verbindungen und Gitterelektrode mit geringem Widerstand und hohem Schmelzpunkt zu erzeugen.
Verpackung 、 Speicher
Tantal (V) Fluorid wird in Stahlzylinder gelagert Mit Packungsspezifikationen von 4,64L/10,2L/44L können die spezifischen Verpackungsspezifikationen entsprechend den Benutzeranforderungen angepasst werden. Tantal (V) Fluorid wird in einem schattigen und trockenen Lagerraum aufbewahrt.
Produktgruppe : Halbleiter elektronischer chemischer Materialien > Halbleiter elektronischer chemischer Materialien
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