Halbleiter/Waferreinigungsmittel

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Carbonylfluorid CF2O für das Ätzen von Chemikalien Mittel

Einheitspreis: USD 500 / Gram

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Carbonylfluorid CAS: 353-50-4 CF2O HIGHT PURITY FÜR AUSETEN CHEMICALS ERGANGE Produkteinführung Das Molekulargewicht des Carbonylfluorids (vgl. 2 O) beträgt 66,01 und sein Schmelzpunkt -114 ℃, der Siedepunkt ist -84 ℃. Carbonylfluorid ist eine Art...

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China Halbleiter/Waferreinigungsmittel Lieferanten

ZSEM erzeugt eine Vielzahl von fluorhaltigen hochreinhaltigen elektronischen Spezialgasen und organischen Lösungsmitteln, um die Herstellung Ihrer Chips zu vereinfachen. Durch die Reinigung der Wafer-Reinigung ist eine der am häufigsten durchgeführten Verfahren, die bei der Herstellung von Wafern durchgeführt werden. Mit der sich ständig ändernden Technologie und der schrumpfenden Immobilie von Geräten werden die Reinigungsprozesse jedes Mal kompliziert. Waferverunreinigungen reichen von Partikeln mit einem Durchmesserbereich von 0,1 bis 20 Mikrometern, organischen und anorganischen Verunreinigungen und Verunreinigungen. Die Waferreinigung muss ohne zusätzliche Verunreinigungen oder Verunreinigungen an die endgültige Oberfläche erfolgen.

Halbleiter/Waferreinigungsmittel
ZSEM erzeugt eine Vielzahl von fluorhaltigen hochreinhaltigen elektronischen Spezialgasen und organischen Lösungsmitteln, um die Herstellung Ihrer Chips zu vereinfachen. Durch die Reinigung der Wafer-Reinigung ist eine der am häufigsten durchgeführten Verfahren, die bei der Herstellung von Wafern durchgeführt werden. Mit der sich ständig ändernden Technologie und der schrumpfenden Immobilie von Geräten werden die Reinigungsprozesse jedes Mal kompliziert. Waferverunreinigungen reichen von Partikeln mit einem Durchmesserbereich von 0,1 bis 20 Mikrometern, organischen und anorganischen Verunreinigungen und Verunreinigungen. Die Waferreinigung muss ohne zusätzliche Verunreinigungen oder Verunreinigungen an die endgültige Oberfläche erfolgen.

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